Системы распыления на постоянном токе

Системы распыления на постоянном токе

Работают в диапазоне Давлений 10—5-10-2 при использовании автономных ионных источников с фокусировкой ионных пучков мишень может помещаться в рабочую камеру, откачанную до высокого вакуума. Системы распыления на постоянном токе диодного, триодного, двойного триодного и тетродного типов преимущественно применяются для распыления мишеней из проводящих и полупроводниковых Материалов. Системы ВЧ распыления первоначально строились по образцу триодных систем (рис. Системы ВЧ Распыления первоначально строились по образцу триодных систем и использовали для поддержания разряда термоэлектронную эмиссию с накаленного катода. Однако в дальнейшем оказалось, что ВЧ напряжение, подаваемое на мишень, может обеспечить как распыление материала мишени, так и непрерывное горение ВЧ плазмы. ВЧ системы подразделяются на несимметричные (заземленные) и симметричные (незаземленные), последние также называются балансными (с двойной мишенью).

1 звезда2 звезды3 звезды4 звезды5 звезд (Еще не оценили)
Загрузка ... Загрузка ...

Оставить комментарий

Почта (не публикуется) Обязательные поля помечены *

Вы можете использовать эти HTML теги и атрибуты: <a href="" title=""> <abbr title=""> <acronym title=""> <b> <blockquote cite=""> <cite> <code> <del datetime=""> <em> <i> <q cite=""> <strike> <strong>

Подтвердите, что Вы не бот — выберите самый большой кружок: