Распределение жидкость — газ во время роста

Распределение жидкость — газ во время роста

Естественно, это можно осуществить лишь для зонной плавки. Как уже отмечалось, последнее может быть осуществлено изменением ее длины в процессе работы или же применением слитков переменного сечения. При наличии в системе летучего компонента появляются дополнительные возможности воздействия на состав расплава, а именно изменение объема газовой фазы в процессе работы и изменение условий равновесия жидкость — газ. Последний процесс, т.е. воздействие на эффективный коэффициент испарения, может быть осуществлен путем изменения в процессе работы давления инертного газа в системе. Непосредственное воздействие на коэффициент распределения жидкость — газ во время роста представляется при современном состоянии техники роста скорее абстрактной теоретической схемой, чем реальной возможностью.

Непосредственное воздействие на коэффициент распределения жидкость — газ во время роста представляется при современном состоянии техники роста скорее абстрактной теоретической схемой, чем реальной возможностью. Программирование скорости при вытягивании из расплава кристаллов легированных одной нелетучей примесью. Программированное изменение скорости роста при вытягивании с целью получения равномерно-легированных кристаллов применяется с первых лет работы с полупроводниковыми материалами.

1 звезда2 звезды3 звезды4 звезды5 звезд (Еще не оценили)
Загрузка ... Загрузка ...

Оставить комментарий

Почта (не публикуется) Обязательные поля помечены *

Вы можете использовать эти HTML теги и атрибуты: <a href="" title=""> <abbr title=""> <acronym title=""> <b> <blockquote cite=""> <cite> <code> <del datetime=""> <em> <i> <q cite=""> <strike> <strong>

Подтвердите, что Вы не бот — выберите самый большой кружок: