Процессы равновесной подпитки

Процессы равновесной подпитки

Все процессы равновесной подпитки должны отличаться малой скоростью, необходимой для установления равновесия подпитка — расплав. Такие скорости оправданы лишь при работе с концентрированными твердыми растворами. Поэтому равновесная подпитка газовой фазой, как уже отмечалось ранее, в чистом виде при росте объемных кристаллов применяется редко. Равновесная подпитка, кроме малых допустимых скоростей роста, характеризуется еще следующими общими чертами.

Равновесная подпитка, кроме малых допустимых скоростей роста, характеризуется еще следующими общими чертами. Первая — большой выход процесса Вторая — возможность регулировать состав расплава, а значит и состав растущего кристалла путем влияния на равновесные условия. Эту регулировку можно осуществлять изменением внешних параметров — температуры и давления.

При этом обычно пользоваться регулировкой процесса с помощью температуры намного проще. Если отвлечься от исследования деталей установления равновесия, т.е. тепломассопереноса в фазах, то сам характер перераспределения состава в этих процессах будет определяться только диаграммой состояния. Теория перераспределения состава при равновесной подпитке крайне проста.Основные трудности поэтому при использовании равновесной подпитки связаны с организацией процесса, а не с его теорией.

1 звезда2 звезды3 звезды4 звезды5 звезд (Еще не оценили)
Загрузка ... Загрузка ...

Оставить комментарий

Почта (не публикуется) Обязательные поля помечены *

Вы можете использовать эти HTML теги и атрибуты: <a href="" title=""> <abbr title=""> <acronym title=""> <b> <blockquote cite=""> <cite> <code> <del datetime=""> <em> <i> <q cite=""> <strike> <strong>

Подтвердите, что Вы не бот — выберите самый большой кружок: